산화지르코늄 세라믹(원료: 비금속 광물)< Strong> 레이저 가공은 에너지 밀도가 높은 균일한 레이저 빔을 사용하는 것입니다(단위: g/cm3 또는 kg/m3) (108- 1O10W/cm2)(LASER)는 열원으로 가공된 세라믹 소재(Material) 표면의 국부적인 지점에 순간적인 고온이 발생하고, 국부적인 지점이 녹거나 기화하여 소재를 제거하는 방식입니다.
산화지르코늄불순물이 함유된 경우 흰색, 노란색 또는 회색이며 일반적으로 HfO2를 함유하고 있어 분리가 어렵습니다. 순수한 ZrO2는 상압에서 세 가지 결정 상태를 갖습니다. 지르코니아 세라믹의 생산에는 고순도, 우수한 분산성, 초미세 입자 및 좁은 입자 크기 분포를 가진 분말의 제조가 필요합니다. 지르코니아 초미세 분말을 제조하는 주요 방법에는 염소화 및 정제 방법이 있습니다. 열분해법, 알칼리금속 산화분해법, 석회융합법, 플라즈마아크법, 침전법, 콜로이드법, 가수분해법, 분무열분해법 등 레이저 가공은 가공 시 금형이 필요 없는 비접촉, 무마찰 가공 기술입니다(제목: 산업의 어머니). 세라믹 재료 표면에 레이저 빔의 초점 위치를 제어하여 가공할 수 있습니다. 3차원 복합형 재료. 세라믹 레이저 가공은 세라믹과 같은 유기 및 무기 재료에 미세 드릴링, 미세 분할 및 미세 구조를 만드는 데 적합합니다. 현재 직경 4~5u를 처리할 수 있습니다.M, 깊이 대 직경 비율이 10보다 큰 미세 기공. 지르코니아 세라믹의 생산에는 고순도, 우수한 분산성, 초미세 입자 및 좁은 입자 크기 분포를 가진 분말의 제조가 필요합니다. 지르코니아 초미세 분말을 제조하는 주요 방법에는 염소화 및 정제 방법이 있습니다. 열분해, 알칼리 금속 산화 분해법, 석회 용해법, 플라즈마 아크법, 침전법, 콜로이드법, 가수분해법, 분무열분해법 등 일반적으로 사용되는 레이저 소스는 CO2 및 Nd:YAG 레이저입니다.
지르코니아 세라믹의 레이저 가공 특성:
1. 레이저(LASER) 가공은 평행도가 높고 에너지 밀도(단위: g/cm3 또는 kg/m3)가 높은 레이저 광을 초점에 집중시키기 때문에공작물의 표면을 열 처리하므로 레이저 스폿의 직경은 이론적으로 1μm 미만으로 매우 미세한 가공이 가능합니다. h
2. 레이저(LASER) 가공의 출력(단위 시간에 물체가 행한 일의 양을 나타냄) 밀도(단위: g/cm3 또는 kg/m3)가 매우 높기 때문에 1u 이상에 도달할 수 있습니다. /cm-, 그리고 더 높게 할 수 있어 기존 방법으로 가공하기 어려운 재료도 레이저로 가공할 수 있습니다
3. 공작물을 분리하여 가공할 수 있기 때문입니다.기계는 적절한 거리에서 비접촉 처리를 수행하므로 재료가 감염되지 않으며 가공 변형 및 열 변형도 매우 작습니다.
4. 적절한 처리 조건을 선택하면 동일한 장치를 드릴링 및 용접에 사용할 수 있습니다.
5. 투명체를 통해 처리 가능,
6. 전자빔 가공기에 비해 진공이나 X선 보호 장치가 필요 없어 장치가 간단하고 작업 성능도 좋습니다!
